Functional Nanomaterials
Technology Lab
      fntlab@sfedu.ru

Химический участок

Оснащен оборудованием и расходными материалами для химической очистки образцов, провдения процессов жидкостного травления и фотолитографии

Магнитная мешалка с подогревом:

  • Максимальная температура нагрева — 280 °С
  • Максимальная скорость вращения — 1500 об/мин

Ультразвуковая ванна:

  • Объём — 1,3 литра
  • Потребляемая мощность — 200 Вт
  • Рабочая емкость (длина x ширина x глубина) — 155x140x100 мм
  • Рабочая частота — 35 кГц
  • Амплитудная модуляция — до 90%

Центрифуга:

  • Количество — 2 (для сушки образов; для нанесения фоторезиста)
  • Модель — Laurell Technolgies WS-400B-6NPP/LITE
  • Максимальная скорость вращения — 3000 об/мин

HotPlate SAWATEC HP-401-250 (плита для нагрева):

  • Температура нагрева столика — 25 — 250 °С
  • Пневмотический подъем крышки и штифтов для удержания подложки
  • Толщина подложек — до 20 мм
  • Размер подложек — 1х300 или 5х100 мм

HotPlate SAWATEC HP-160 (плита для нагрева):

  • Температура нагрева столика — 25 — 250 °С
  • Пневмотический подъем крышки и штифтов для удержания подложки
  • Толщина подложек — до 20 мм
  • Размер подложек — до 150 мм

 

Доступные методики работы:

  • Химическая очистка образцов, полупроводниковых и дижелектрических пластин
  • Подготовка образцов для литографических процессов
  • Жидкостное изотропное и анизотропное травление подложек

 

Оборудование используется при выполнении проектов:

 

Проявляем, травим, сушим и осаждаем всякое:

FNT Lab

 

 

Связаться с нами

     

    Разработка и поддержка
    cCube.ru