Магнетронное распыление – Auto500, BOC Edwards

Установка вакуумного напыления, оснащенная высокочастотным магнетроном и магнетроном постоянного тока. Предназначена для напыления металлических и диэлектрических слоев. Позволяет проводить осаждение пленок металлов, оксидов, нитридов и силицидов толщиной от 10 нм до 1 мкм. Контроль толщины пленок осуществляется с помощью кварцевого измерителя толщины.

Мишени: Al, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Mo, W, TiN, ZrO, ITO, TiO₂, Al₂O₃

Количество магнетронов: 2 (DC и RF)

Диаметр мишени: 3″ (76.2 мм) для DC и 2″ (50 мм) для RF

Температура нагрева подложки: до 200°С

Диаметр образца: до 100 мм

Давление в камере: 0.2 – 2 Па

Предельный вакуум: 10^-3 Па

Мощность источника плазмы: 2 кВт (DC) и 1.5 кВт (RF)

Технологические газы:

• Ar (до 20 sccm)
• N₂ (до 20 sccm)
• O₂ (до 20 sccm)

Очистка образца: ионная, Ar

Доступные методики напыления:

• Высокочастотное магнетронное распыление (RF)
• Магнетронное распыление в постоянном электрическом поле (DC)

Оборудование используется при выполнении проектов:

• Фокусрованный ионный пучок
• Углеродные нанотрубки