Импульсное лазерное осаждение – PLD Pioneer 180, Neocera

Предназанчен для контролируемого осаждения оксидных пленок в атмосфере кислорода, пьезо- и сегнетоэлектрических пленок многокомпонентных оксидов металлов, тонких металлических пленок в атмосфере аргона или в вакууме. Для контролируемого испарения материала мишени используется KrF эксимерный лазер с длиной волны 248 нм. Имеется возможность формирования пленок на подложках диаметром от 10 до 100 мм. В состав установки входит ионный источник KDC 10 DC, позволяющий работать в режиме ion-assisted pulsed laser deposition.

Температура нагрева подложки: до 750 °С

Предельный вакуум: не хуже 10^-5 Торр

Рабочий вакуум: 10^-4 – 1 Торр

Технологические газы:

• Кислород (O₂)
• Азот (N₂)
• Аргон

Эксимерный лазер: Coherent COMPex Pro 102 F

• максимальная частота следования лазерных импульсов — 10 Гц
• плотность энергии лазерного излучения — 1 – 3 Дж/см²
• длительность импульса — 20 нс

Расстояние от мишени до подложки (регулируемое): 40 – 115 мм

Размер образца: до 100 мм

Держателеи для мишеней: 3 шт. (2 для 2” мишеней; 1 для 1“ мишеней)

Доступные методики работы:

• Формирование пленок оксидов металлов
• Формирование нанорезмерных и наноструктурированных пленок

 

Наши результаты