![](/wp-content/uploads/2022/10/YES-CV200RFS_3.jpg)
Размер образцов: одна пластина диаметром 200 мм или две пластины до 100 мм
Скорость снятия фоторезиста: 600 — 700 нм/мин
Температура нагрева подложки: до 250 °С
Давление в камере: 0,1 мТорр — 1000 Торр
Мощность источника плазмы: 100 — 1000 Вт (40 кГц)
Технологические и вспомогательные газы: